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      丹陽市中研研磨材料科技有限公司
      • 拋光液的成份組成,其制作方法及使用范圍不同

        拋光液的成份組成,其制作方法及使用范圍不同

        在半導體微電子工業領域中,離不開單晶硅、砷化鎵晶體、藍寶石、碳化硅等半導體材料。而為了保證在集成電路元器件的制造過程中的產品性能合格,工藝上會要求前道工藝的產品晶圓具有無表面損傷和無亞表層缺陷的高質量超光滑基材表面。無瑕疵、光潔的藍寶石基片由于常用的半導體材料質地硬且脆,加工中極易產生脆裂而導致裂紋,因此欲將其加工至平整光潔,需尋找合適的方法。而到目前為止,沒有哪一種比化學拋光(CMP)技術更適合用于集成電路芯片的超精密加工的方法了。作為被公認的**的全局平面化技術,CMP技術結合了超細粒子的機械研磨作用與氧化劑的化學腐蝕作用,能使人們獲得比以往任何平面加工更加出色的表面形貌變化。其中,拋光液是CMP技術的關鍵之一(組成:磨料粒子、腐蝕介質和助劑),其性能直接影響著被拋光工件的表面質量,目前國內外常用的有SiO2膠體拋光液、CeO2拋光液、Al2O3拋光液、納米金剛石拋光液等。為了對拋光液做進一步的了解及獲得素材,丹陽中研科技擁有包括稀土拋光粉、稀土拋光液、SiO2拋光液、ZrO2拋光液、Al2O3研磨液、金剛石研磨液、碳化硼研磨液等在內的數十種拋光產品,頗受海內外歡迎。下面便以這系列拋光產品為例,細數它們在應用中一些的特點。SiO2膠體拋光液<SiO2膠體拋光液是以高純度的硅粉或者水玻璃為原料,經過特殊工藝生產的一種高純度金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料的高平坦化拋光,如硅片、化合物晶體、金屬、寶石等的拋光加工。根據下游應用的不同,SiO2拋光液的磨料粒徑及pH值可進行調整(圖:中研科技)SiO2的硬度和硅片的硬度相近,因此,對半導體硅片進行精拋光時,磨削層的厚度僅為磨料粒子尺寸的四分之一。一般的生產情況下,除了通過提高產物的排除速率和加強化學反應來提高拋光效率外,還會在精拋時采用納米級的SiO2膠體來進一步減小表面粗糙度和損傷層的深度。稀土拋光液氧化鈰拋光粉主要成份為二氧化鈰(CeO2),其次分別為氧化鑭(La2O3)、氧化鐠(Pr2O3)、氧氟化鑭(LaOF),此外還含有微量的氧化硅、氧化鋁和氧化鈣,是玻璃拋光的通用磨削材料。兩種不同型號的稀土拋光液,區別在于稀土的組成及占比(圖:中研科技)隨著工件尺寸的縮小,傳統的硅容易在尺寸較大的集成電路淺溝槽隔離(ShallowTrenchIsolation,STI)處形成蝶形缺陷。而以二氧化鈰作為研磨顆粒的第二代拋光液,具有高選擇性和拋光終點自動停止的特性,配合粗拋和精拋,能夠十分有效地解決第一代STI工藝缺點,是目前重點發展的產品類型之一。不過由于鈰屬于稀有金屬,并且二氧化鈰提純難度大,因此價格較為昂貴。此外,二氧化鈰的粒度是影響拋光效果的關鍵參數之一,因此納米級二氧化鈰的制備及應用成為了當前研究熱點之一。Al2O3拋光液藍寶石晶片作為*常用的一種襯底材料之一,它的拋光成為了關注的焦點。由于α-Al2O3的硬度高,穩定性好,因此它在處理藍寶石時,與SiO2等軟質磨料相比在去除速率上有著明顯的優勢。除此之外,Al2O3拋光液還十分適用于光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等的精密拋光,應用相當廣泛。優秀的Al2O3拋光液應具有顆粒分散均勻,不團聚,懸浮性好等特點(圖:中研科技)化學機械研磨,晶圓制造中,隨著制程技術的升級、導線與柵極尺寸的縮小,光刻(Lithography)技術對晶圓表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越來越高,IBM公司于1985年發展CMOS產品引入,并在1990年成功應用于64MB的DRAM生產中。1995年以后,CMP技術得到了快速發展,大量應用于半導體產業?;瘜W機械研磨亦稱為化學機械拋光,其原理是化學腐蝕作用和機械去除作用相結合的加工技術,是目前機械加工中**可以實現表面全局平坦化的技術。由于CMP中的拋光墊采用聚氨酯等材料制成,在拋光過程中拋光墊表面發生形變,拋光墊與基片直接接觸區域01不產生拋光效果。因此非接觸區域02的拋光效率決定了整個拋光片的拋光速率。由圖1所示,如果二氧化鈰粒徑分散度較大,非接觸區域02部分則僅有尺寸較大的顆粒參與機械磨削,拋光效率較低。同時,粒徑較大的納米顆粒也會導致拋光表面受到研磨損傷,不利于無機絕緣薄膜的高精度拋光。二氧化鈰作為一種重要的稀土化合物,其納米顆粒由于具有特殊的物理化學性質,已廣泛應用于環境檢測儀敏感材料、汽車尾氣催化劑、儲氧材料、燃料電池等領域。近年來,隨著集成電路產業的飛速發展,化學機械拋光(CMP)技術作為僅有的能夠實現全局平坦化的工藝,已成為IC制造領域的關鍵技術。以二氧化鈰作為研磨料的拋光液可以與SiO2發生化學反應,通過化學結合Si-O-Ce拋光SiO2,因此對SiO2的去除速率快。且不同于膠體SiO2等拋光漿料需要在堿性溶液中保存,二氧化鈰基拋光液可以在pH值中性條件下穩定存在,因此在淺溝道隔離、層間介質(ILD)拋光等平坦化工藝中均有廣泛的應用。<br>另外,由于氧化鈰硬度低于氧化硅顆粒以及氧化鋁顆粒,不容易造成表面損傷,因此也可以作為光掩模、光學透鏡、Ⅲ-Ⅳ族砷化鎵晶片的鏡面拋光。在氧化鈰基CMP拋光液中,為了獲得更快的拋光速率和更高的表面平整度,迫切需要痕量金屬污染物少、球形、粒徑分布均勻的氧化鈰納米顆粒
      • 藍寶石拋光工藝

        藍寶石拋光工藝

        在藍寶石的拋光工藝中, 常用的磨料主要包括金剛石、二氧化硅溶膠、氧化鈰和氧化鋁等磨料。 實驗數據表明,a-氧化鋁拋光粉(0.3um,球型)在藍寶石拋光過程中的優勢明顯,****。 其一:拋光粉硬度比較: 1) 金剛石只用于傳統的機械拋光,其硬度(莫氏10)比藍寶石(莫氏 9)硬度高,容易產生劃傷,藍寶石表面損傷度高,良率低。 2)氧化鋁的硬度與藍寶石相當,顆粒球型,拋光速率高,不易起劃傷,良率高,是比較理想的拋光材料。 3)SiO2硬度(莫氏硬度7.5)比藍寶石低,拋光速率比氧化鋁拋光粉慢很多,拋光比較耗時。 其二:拋光效果比較: 在拋光C-平面藍寶石襯底時,a-氧化鋁拋光粉(0.3um)制成的研磨液的拋光性能(去除速率和表面質量等)優于其他磨料, 具體表現如下: 1)形成的水化層增加,拋光過程中,在藍寶石基底上持續形成水化層,它比基底層軟,該層的形成有利于材料的去除,并產生高質量表面。 2)表面質量改善,a-氧化鋁與基底藍寶石的硬度一樣,因此,磨料劃傷藍寶石的可能性很小。 3)去除速率增加,a-氧化鋁磨料經歷了與基底藍寶石一樣的表面水化,在基底寶石與磨料水化層之間的化學機械作用加速了材料去除,當磨料和基底藍寶石的表面在拋光壓力下靠在一起并剪切時,就相互粘附,進一步的剪切就會使粒子撕開鍵合的水化層,通過粒子的前邊沿促進材料去除。表面粗糙度能小于0.2nm. 4)氧化鋁拋光液在循環過程中穩定性更好,二氧化硅拋光液在使用過程中溫度必須嚴格控制,以防止結塊,但氧化鋁研磨液就比較穩定,也顯示了很好的潔凈度。 實驗1:采用氧化鋁拋光粉對藍寶石襯底進行拋光,拋光液的pH為10時拋光****,表面粗糙度RMS可達0.2nm。拋光壓力在0. 12Mpa 至0. 15Mpa ,拋光液濃度為10%時較佳。濃度越高,拋光速率越快。 目前很多**的藍寶石加工廠正在評估并使用基于氧化鋁研磨液用于更大直徑晶圓拋光。 來源:宣城晶瑞新材料有限公司
      • 研磨專家教你如何選購研磨液

        研磨專家教你如何選購研磨液

        五金行業的迅速發展,讓市場上出現很多種類的研磨液,比如拋光的,比如光亮加防銹,比如去毛刺的等等;這些使大家對選購研磨液造成一定的煩惱。你首先得確認你用它來做什么,大概可分為研磨、拋光、去毛刺、倒角等幾個目的。當下很多五金加工廠,手機配件加工廠等客戶的產品要求越來越高,因此怎么選擇研磨液也就至關重要了。 選購研磨液,要考慮下面幾個問題:  1.是要拋光增加光亮度,還是研磨去毛刺,目的要清楚;  2.根據自己公司環境和客戶要求,選擇酸性還是堿性;  3.了解自身產品的材質,和目前所用的研磨拋光機而選擇研磨液;  4.根據你的預算而選擇研磨液,研磨液哪家好?研磨液特點:  1.軟化作用:即對金屬表面氧化膜的化學作用,使其軟化,易于從表面研磨除去,以提高研磨效率。  2.潤滑作用:像研磨潤滑油一樣,在研磨塊和金屬零件之間起潤滑作用,從而得到光潔的表面。  3.洗滌作用:像洗滌劑一樣,能除去金屬零件表面的油污。  4.防銹作用:研磨加工后的零件,未清洗前在短時間內具有一定的防銹作用。  5.緩沖作用:在光飾加工運轉中,與水一起攪動,會緩解零件之間的相互撞擊。  什么研磨液*適合你呢?根據你自已對研磨液的需求,加上這些選購研磨液的依據,我相信你能夠選擇一款適合自已的研磨液,根據自已自身的情況,購買研磨液用來干什么,使用需要注意安全,使用研磨液研磨注意事項有那些?  尋找心中**的研磨液也不是很困難,只要根據你的客戶需求,根據使用環境選擇合適的,總的來說選擇一家質量過硬,資質良好研磨液廠家是至關重要的,該說的都說了,該試的也試了,你就會找到合適你的研磨液?,F在的研磨液廠家,一般都會免費寄樣品試樣,你可以多找幾家都試一下,看那一款能達到你的*好要求。不過,研磨液屬于化學產品,環保一定要過關。所以這一點也是要考慮的。
      • 氧化鈰研磨液應用技術

        氧化鈰研磨液應用技術

        氧化鈰是一種重要的稀土氧化物,主要用于冶煉金屬鈰和各種材料的添加劑。從1940年開始,高氧化鈰含量的稀土拋光粉開始取代氧化鐵(即鐵紅)用于玻璃拋光,成為玻璃拋光加工過程中的關鍵工藝材料之一。與傳統拋光粉—氧化鐵相比,稀土拋光粉具有拋光速度快,光潔度高和使用壽命長的優點,而且能改變拋光質量和操作環境。例如用氧化鈰拋光粉拋光透鏡,一分鐘完成工作量,如用氧化鐵拋光粉則需要30~60分鐘。氧化鈰在玻璃拋光中的優異性能在于鈰元素的多價態及其易轉化特性,Ce(+3)/Ce(+5)的氧化還原反應會破壞硅酸鹽晶格,并通過化學吸附作用,使玻璃表面與拋光劑接觸的物質(包括玻璃及水解化合物)被氧化或形成絡合物而被除去。此外,氧化鈰對二氧化硅質玻璃、晶體,氟化鈣等晶體具有同樣的拋光特性。一、 氧化鈰拋光粉分類由于氧化鈰對二氧化硅質玻璃、晶體等具有優異的性能,氧化鈰研磨液的分類主要依據氧化鈰含量及微粉粒度進行。1. 低鈰拋光粉低鈰拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3,Nd2O3,Pr6O11等或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物。由于含有鐠元素(Pr),外觀表現為紅色或棕紅色,鐠含量越高顏色越深。隨著科技的進步以及對鐠元素的開發利用,低鈰拋光粉鐠元素被提煉出來,因此也出現白色低鈰拋光粉產品。此類拋光粉價格低,但初始拋光能力與高鈰拋光粉幾乎沒有差別,因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等低端產品玻璃的拋光,但使用壽命要比高鈰拋光粉低。? ?? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 圖 1低鈰拋光粉2.高鈰拋光粉氧化鈰含量在80%以上稱為高鈰拋光粉,此種拋光粉氧化鈰的含量越高,拋光能力越大,使用壽命也越長,主要用于硬質玻璃和光學晶體表面拋光。顏色有白色和土紅色。? ?
      • 拋光粉的種類

        拋光粉的種類

        拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鋯等組成份組成,不同的材料的硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用領域也各有不同。這幾種材料氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9,氧化鈰和氧化硅莫氏硬度為7,氧化鈰與硅鹽酸玻璃的化學活性較高,硬度相當,因此廣泛用于玻璃拋光。
      • 常用的拋光方法有哪些

        常用的拋光方法有哪些

        1.1機械拋光機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉體表面,可使用轉臺等輔助工具,表面質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中*高的。光學鏡片模具常采用這種方法。1.2化學拋光化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備,可以拋光形狀復雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高?;瘜W拋光的核心問題是拋光液的配制?;瘜W拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。1.3電解拋光電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光過程分為兩步:(1)宏觀整平:溶解產物向電解液中擴散,材料表面幾何粗糙下降,Ralμm。 (2)微光平整: 陽極極化,:表面光亮度提高,Ralμm。1.4超聲波拋光將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表面溶解產物脫離,表面附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程,利于表面光亮化。1.5流體拋光流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒;中刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有:磨科噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)并摻上磨料制咸,磨料可采用碳化硅粉末。1.6磁研磨拋光磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控制,工作條件好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。
      藍寶石拋光液
      產品描述在藍寶石的拋光工藝中, 常用的磨料主要包括金剛石、二氧化硅溶膠、氧化鈰和氧化鋁等磨料。 實驗數據表明,a-氧化鋁拋光粉(0.3um,球型)在藍寶石拋光過程中的優勢明顯,效果*好。 其一:拋光粉硬度比較: 1) 金剛石只用于傳統的機械拋光,其硬度(莫氏10)比藍寶石(莫氏 9)硬度高,容易產生劃傷,藍寶石表面損傷度高,良率低。 2)氧化鋁的硬度與藍寶石相當,顆粒球型,拋光速率高,不易起劃傷,良率高,是比較理想的拋光材料。 3)SiO2硬度(莫氏硬度7.5)比藍寶石低,拋光速率比氧化鋁拋光粉慢很多,拋光比較耗時。 其二:拋光效果比較: 在拋光C-平面藍寶石襯底時,a-氧化鋁拋光粉(0.3um)制成的研磨液的拋光性能(去除速率和表面質量等)優于其他磨料, 具體表現如下: 1)形成的水化層增加,拋光過程中,在藍寶石基底上持續形成水化層,它比基底層軟,該層的形成有利于材料的去除,并產生高質量表面。 2)表面質量改善,a-氧化鋁與基底藍寶石的硬度一樣,因此,磨料劃傷藍寶石的可能性很小。 3)去除速率增加,a-氧化鋁磨料經歷了與基底藍寶石一樣的表面水化,在基底寶石與磨料水化層之間的化學機械作用加速了材料去除,當磨料和基底藍寶石的表面在拋光壓力下靠在一起并剪切時,就相互粘附,進一步的剪切就會使粒子撕開鍵合的水化層,通過粒子的前邊沿促進材料去除。表面粗糙度能小于0.2nm. 4)氧化鋁拋光液在循環過程中穩定性更好,二氧化硅拋光液在使用過程中溫度必須嚴格控制,以防止結塊,但氧化鋁研磨液就比較穩定,也顯示了很好的潔凈度。 實驗1:采用氧化鋁拋光粉對藍寶石襯底進行拋光,拋光液的pH為10時拋光效果*好,表面粗糙度RMS可達0.2nm。拋光壓力在0. 12Mpa 至0. 15Mpa ,拋光液濃度為10%時較佳。濃度越高,拋光速率越快。 目前很多**的藍寶石加工廠正在評估并使用基于氧化鋁研磨液用于更大直徑晶圓拋光。
      二氧化硅拋光液
      產品描述二氧化硅拋光液        二氧化硅拋光液采用“一步合成法”制備。二氧化硅拋光液的拋光膠粒致密、均勻、成球形,具有拋光效率高、粒度分布均勻、雜質含量低等特點,廣泛應用于光纖器件、硅片、光學玻璃、晶體、藍寶石、模具等各種精密器件的*后拋光。粒度、濃度、pH值可根據客戶需要進行設計?;咎匦裕禾匦孕吞柤皹藴蔇TSO-60DDTSO-100DDTSO-120DDTSO-140D粒徑(nm)60-8080-100100-120140-160SiO2含量(重量)               10-50%(一般推薦用20%)Na2O含量(重量)                         ≤0.4%分散介質                           水外觀                        乳白色分散狀態                        單分散PH值             2-11(一般酸性2.5-3.5,堿性9-10)膠粒形態                           球型保質期(月)                   ≥12(0℃以上) 產品特點:球形膠粒,結構致密,可獲得良好的拋光質量和拋光效率。粒徑可控,分布集中(±10nm)。純度高,金屬離子含量低??筛鶕脩粢笤O定粒徑大小、濃度、PH值、離子含量等指標。應用領域光纖連接器、半導體硅片、砷化鎵片、藍寶石、半導體化合物晶片、硬盤盤片液晶玻璃、光學鏡頭、精密模具表面等產品的拋光。包裝及儲存1.采用聚乙烯塑料桶包裝,主要包裝規格有500ml、5kg(其他規格可訂制)。2.貯存時應避免曝曬,貯存溫度為0-40℃。低于0℃則產生凍膠失效。3.避免敞口長期與空氣接觸。
      金剛石鏡面拋光液
      丹陽中研磨材料金剛石研磨液、拋光液、分散劑、磨料、研磨液復合溶劑模具拋光液一、產品基本介紹該拋光液采用進口原料和國外先進技術調配,可替代日本、臺灣等模具拋光液,適用于不銹鋼、模具鋼、硬質合金、鎢鋼、鈦合金、鋅合金、銅合金等金屬材質產品去除表面細小劃痕、劃傷、紋路、毛輪印、氧化層、變質層、焊斑、毛刺等以達到高亮度、完全鏡面效果。對模具無腐蝕。易于清洗。二、產品使用方法1.平面簡易形狀產品:一般采用平面拋光機配合拋光墊(白磨皮、阻尼布、絨布、毛氈等)或拋光輪拋光產品,將拋光液搖勻滴在產品或毛輪或拋光墊上,保持濕潤狀態持續打拋產品。2.曲面產品:一般采用毛輪(羊毛輪和布輪)打拋,將毛輪用拋光液潤濕,然后進行打拋,打拋過程持續滴加拋光液,保持毛輪潤濕狀態?;蛘卟捎贸暡ㄖ衿瑨伖?。三、注意事項1.精拋液主要用于金屬產品*后出鏡面提高亮度,幾乎無尺寸去除(即不改變產品尺寸),不可取代前道工序。拋光前預處理有利于提高拋光效率和質量。金屬產品研磨拋光流程一般為:第一步:粗磨,采用2000目砂紙或油石粗磨。使產品表面粗化并達到基本尺寸要求。第二步:粗拋,采用粗拋液進行拋光前預處理。進一步提高產品表面質量和尺寸精度。第三步:精拋1,采用我司精拋液1拋光5min以上,去除劃痕,達到鏡面效果。第四步:精拋2,若鏡面效果要求非常高,則采用我司精拋液2拋光10min以上進行收光,進一步提高鏡面和亮度。該工序完全無尺寸去除量。2.所用毛輪需有吸水效果,確保拋光液可存留在毛輪上。一般用羊毛氈或布輪。3.毛輪打拋轉速過快拋光液易被甩走。建議在液不被甩走的前提下提高轉速。4.產品拋光后用清水沖洗干凈,或用干凈的濕布擦干凈。5.使用精拋液2拋光后的產品馬上泡在水里,及時清洗或擦干凈,避免污染和生銹。銅等金屬拋光后注意防氧化處理。更換不同拋光液需先將產品和機臺清洗干凈。同一個毛輪不可混用多種拋光液,避免污染。
      多晶金剛石研磨液
      丹陽中研材料科技多晶金剛研磨液、拋光液、磨料分散劑懸浮劑、磨料、研磨液復合溶劑一、產品介紹該款拋光液為鏡面拋光液,適用于不銹鋼、模具鋼、硬質合金、鎢鋼、鈦合金、鋅合金、銅合金等金屬材質產品(特別強調不適合黃金、白銀等貴重金屬)去除表面細小劃痕、劃傷、紋路、毛輪印、氧化層、變質層、焊斑、毛刺等以達到高亮度、完全鏡面效果。通常情況下,使用精拋液1即可完全滿足鏡面效果要求。極少數鏡面特殊要求才可能使用精拋液2。二、產品使用方法1.平面簡易形狀產品:一般采用平面拋光機配合拋光墊(白磨皮、阻尼布、絨布、羊毛氈等)或拋光輪(注意拋光輪需能吸水)拋光產品,將拋光液搖勻滴在產品或毛輪或拋光墊上,保持濕潤狀態持續打拋產品。2.曲面產品:一般采用毛輪打拋,將毛輪用拋光液潤濕,然后進行打拋。通常粗拋用羊毛輪,精拋用布輪配合使用。三、注意事項1.該款產品為拋光液,主要用于金屬產品*后出鏡面提高亮度,幾乎無尺寸去除,不可取代前道工序。2.所用毛輪需有吸水效果,確保拋光液可存留在毛輪上。3.毛輪打拋轉速過快,拋光液易被甩走。4.產品拋光后用清水沖洗干凈?;蛴酶蓛舻臐癫疾粮?。四、一般加工流程1.該產品主要作用為拋光出鏡面效果提高亮度,一般用于產品表面處理*后一道工序,其移除率較小,前面的加工工序通常不可省去。金屬模具產品研磨拋光流程一般為:第一步:粗磨,采用1500目砂紙或油石粗磨。使產品表面粗化并達到基本尺寸要求。第二步:精磨,采用2000-3000目細砂紙或油石精磨。進一步提高產品表面質量和尺寸精度。第三步:粗拋,采用我司粗拋液配合羊毛輪進行粗拋,去除劃痕和紋路,達到基本鏡面效果。第四步:精拋1,采用我司精拋液1配合羊毛輪或布輪進行精拋,去除表面細化劃痕、紋路、消掉毛輪印子等,提高鏡面和亮度效果。該工序幾乎無去除量。第五步:精拋2,若鏡面效果要求非常高,則采用我司精拋液2配合布輪進行收光,進一步提高鏡面和亮度。該工序幾乎無去除量。2.產品拋光后及時清洗或擦干凈,避免污染和生銹。銅、鐵等金屬拋光后注意防氧化處理。五、拋光鏡面效果圖
      單晶金剛石研磨液
      丹陽中研單晶金剛研磨液、拋光液、磨料分散劑懸浮劑、磨料、研磨液復合溶劑一、產品介紹該款拋光液為鏡面拋光液,適用于不銹鋼、模具鋼、硬質合金、鎢鋼、鈦合金、鋅合金、銅合金等金屬材質產品(特別強調不適合黃金、白銀等貴重金屬)去除表面細小劃痕、劃傷、紋路、毛輪印、氧化層、變質層、焊斑、毛刺等以達到高亮度、完全鏡面效果。通常情況下,使用精拋液1即可完全滿足鏡面效果要求。極少數鏡面特殊要求才可能使用精拋液2。二、產品使用方法1.平面簡易形狀產品:一般采用平面拋光機配合拋光墊(白磨皮、阻尼布、絨布、羊毛氈等)或拋光輪(注意拋光輪需能吸水)拋光產品,將拋光液搖勻滴在產品或毛輪或拋光墊上,保持濕潤狀態持續打拋產品。2.曲面產品:一般采用毛輪打拋,將毛輪用拋光液潤濕,然后進行打拋。通常粗拋用羊毛輪,精拋用布輪配合使用。三、注意事項1.該款產品為拋光液,主要用于金屬產品*后出鏡面提高亮度,幾乎無尺寸去除,不可取代前道工序。2.所用毛輪需有吸水效果,確保拋光液可存留在毛輪上。3.毛輪打拋轉速過快,拋光液易被甩走。4.產品拋光后用清水沖洗干凈?;蛴酶蓛舻臐癫疾粮?。四、一般加工流程1.該產品主要作用為拋光出鏡面效果提高亮度,一般用于產品表面處理*后一道工序,其移除率較小,前面的加工工序通常不可省去。金屬模具產品研磨拋光流程一般為:第一步:粗磨,采用1500目砂紙或油石粗磨。使產品表面粗化并達到基本尺寸要求。第二步:精磨,采用2000-3000目細砂紙或油石精磨。進一步提高產品表面質量和尺寸精度。第三步:粗拋,采用我司粗拋液配合羊毛輪進行粗拋,去除劃痕和紋路,達到基本鏡面效果。第四步:精拋1,采用我司精拋液1配合羊毛輪或布輪進行精拋,去除表面細化劃痕、紋路、消掉毛輪印子等,提高鏡面和亮度效果。該工序幾乎無去除量。第五步:精拋2,若鏡面效果要求非常高,則采用我司精拋液2配合布輪進行收光,進一步提高鏡面和亮度。該工序幾乎無去除量。2.產品拋光后及時清洗或擦干凈,避免污染和生銹。銅、鐵等金屬拋光后注意防氧化處理。五、拋光鏡面效果圖
      高級金相氧化鋁拋光粉
      產品描述產品適用于金相和巖相研磨、拋光外,還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。氧化鋁拋光粉具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。莫氏硬度可達1800-2000kg/mm2。顆粒圓滑,不易產生劃痕,粒度分布范圍窄,研磨后材料表面質量好。粒度:O.05、W0.3、0.5、1、1.5、2.5、3包裝:跟據客戶要求可以另行包裝成1KG瓶裝、4KG桶裝?!居猛尽吭摦a品可應用于以下領域:★  電子行業:電子行業單晶矽片的研磨以及PCB金相切片的研磨;★  裝飾行業:不銹鋼食具及其它裝飾材料的拋光;★  噴涂材料:等離子噴涂;★  光學玻璃冷加工?!臼褂梅椒ā考铀渲贸?0-90g/L的懸浮液后使用。
      金剛石拋光液
      產品描述、
      納米氧化鋁拋光粉
      一、產品簡介:   隨著社會的不斷發展,對產品表面處理的要求越來越高,SiO2材質拋光粉,出光效果好,但切削率太慢;金剛石或者SiC材質拋光粉,硬度10,切削快,但表面有劃傷。根據市場需求,我公司歷經3年時間,自主研發了氧化鋁拋光粉系列產品,該產品硬度適中,更適合于精細拋光,通過選擇合適粒度的產品,調節拋光液固含(1-60%可調),達到切削率高、出光快的效果。同一種粒度產品,提高拋光液中固含,切削率會明顯提高。目前,我公司產品主要為精細拋光粉,產能每月20噸以上,可應用于藍寶石的*終拋光。二、產品指標:1.物化指標:NAME(型號DT-0.2DT-0.3DT-0.5 DT-0.5DT-0.8DT-1.0DT-1.0DT-1.5DT-2.0DT-2.5A BABMean Particle Size  D50  (um)0.20.30.50.50.81.01.01.52.02.5BET(m2/g) 比表面15108764532.52Bulk Density  (g/cm3) 松堆比0.400.500.500.600.650.700.650.750.800.80Chemical Purity化學純度Si    (ppm)<50<50<50<50<50<50<50<50<50<50Fe   (ppm)<60<60<60<60<60<60<60<60<60<60Na   (ppm)<100<100<100<100<100<100<100<100<100<100Al2O3   (%)>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95>99.95 2.產品特性:●水溶易分散,顆粒分散性、懸浮性好,客戶可直接制成拋光液使用,固含1%~60%任意可調,液相穩定?!窬喾€定、硬度可調(比表面1-30m2/g)、顆粒小且粒徑分布均勻;●出光快、切削力強、光度亮、鏡面效果好;●研磨效率高,研磨效率遠遠高于二氧化硅(SiO2)等軟質磨料,表面光潔度優于白剛玉的拋光效果,能拋出均勻而明亮的光澤。三、市場應用:●手機屏幕拋光,包括藍寶石手機屏、玻璃手機屏的*終拋光。也可應用于:人造寶石、鋯石、高檔玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙等振動拋光(機器拋光、滾動拋光)、手動拋光(研磨拋光)等?!窠饘賿伖?,包括手機外殼、汽車輪轂、高檔五金的*終拋光。也可應用于鋁材、銅材、不銹鋼、石材、墻地磚等研磨拋光?!衿崦鎾伖?,包括汽車油漆打磨拋光,手機外殼油漆拋光等?!窨芍苯又瞥筛鞣N類型拋光液,使用過程液相穩定。
      鋁合金鏡面氧化鋁拋光液
      產品描述【產品型號}DT/SP系列氧化鋁拋光液【應用領域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光?!井a品特色】顆粒分散性好,有效避免了拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷;顆粒粒徑分布適中,**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光良率;運用拋光液中的化學新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質量;低VOC配方,使用過程避免粉塵產生,關注環保和人體健康安全?!臼褂谜f明】產品久置會有分層、沉淀,均屬正常物理現象,使用前請攪拌均勻;使用過程中保持持續攪拌,可保證穩定的研磨效率;根據工藝要求進行一定的稀釋,一般建議1:1至1:3?!景b】標準包裝:25 kg /桶,250 kg/桶。也可根據客戶要求進行包裝?! ′X合金氧化鋁鏡面拋光液:不 銹鋼拋光液具有效率高、效果穩定等特點;專門針對鋁合金材質鏡面拋光工序(如1000系列工業純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號),并根據材料型號的不 同配套有相應的不銹鋼拋光液。作業后能夠實現很高標準的平行度和**鏡面效果?! ′X合金鏡面拋光液的組分:拋光粉、水、酸、無機鹽、其他。適合鋁合金等材質工件鏡面拋光加工用?!?  一般來說,工件要實現鏡面效果,基本上都是要經過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,則可以省略粗拋工序?! 〈謷仯喝コ鞯拇蟛糠钟嗔?,**所達到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度?! 【珤仯捍謷佂瓿珊蟮南乱粋€工序就是精拋,結果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細的裂紋深度?! 伖猓汗ぜㄟ^了粗拋、精拋工藝后,進入拋光工序;也是*終實現光學表面層實現的**一個部分,前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準備,使得在整個拋光過程當中,盡量去除粗拋與精拋所留下的破環層,實現光學表面*理想鏡面效果?! ∮捎谶@三種工序不同,所用的研磨液也不一樣  1.粗拋選擇的耗材是:粗拋液,粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面,主成分的材質稍微較粗,要求硬度較高,顆粒度較大,這樣才有較好的切削力?! ?.精拋選擇的耗材是:精拋液,精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點,需要材質更為精細,顆粒非常小的原材料生產?! ?.拋光選擇的耗材是:拋光液,拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**,對精細度有著非常嚴格的標準。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成?! ∵x擇中晶,保證拋光效果    一般來說,研磨液都是以客戶工件的材質和要達到的效果來配置的。在交貨前,中晶工程師會依據客戶提供的工件試樣,除了要達到客戶拋光要求,還要實現高良率、**率、低成本原則。交貨后,提供詳細的使用方法,并有工程師上門指導,保證拋光效果。
      丹陽市中研研磨材料科技有限公司是一家專業從事研磨拋光材料(片狀氧化鋁研磨拋光微粉、平板狀氧化鋁微粉、單晶金剛石拋光液、多晶金剛石微粉)研制開發,單晶/多晶研磨微粉,單晶/多晶專用研磨液,片狀氧化鋁拋光液(Al2O3),平板狀氧化鋁研磨拋光粉(Al2O3),氧化鋁拋光液等產品質量按國外工藝參數產品的標準執行,居國內優秀水平,使其顆粒粒徑更均勻、切削力強、光澤度好不僅填補了國內空白,而且產品性能達到或超過國際標準水平,性價比與國外同類產品相比具有優秀優勢,產品在國內市場已替代國外產品,市場占有率迅速提高。 主營產品: 1/片狀氧化鋁研磨拋光粉、多面狀氧化鋁研磨拋光微粉 2/納米、微米級氧化鋁拋光液 3/單晶、多晶研磨微粉,單晶、多晶專用研磨液 4/碳化硼微粉及拋光 5/拋光蠟專用氧化鋁微粉
      • 丹陽中研(DY)研磨液

        丹陽中研(DY)研磨液

        丹陽中研(DY)研磨液由已申請**、**特色的懸浮分散劑、粒度分布較窄的研磨料組成。丹陽中研研磨液****的懸浮分散劑可提供研磨料**的懸浮分散性,材料去除率,還能帶來出色的表面質量這一額外收益。丹陽研磨液是半導體材料 (藍寶石、SiC、硅)、金相材料和精加工的理想選擇。 中研金剛石研磨液使用的金剛石表面擁有獨具特色的微晶面結構,可提供小切削點,大幅降低工件的表面粗糙度。 *新一代中研研磨液配方專門設計為兼顧高材料去除率和可接受表面質量的應用提供高經濟性解決方案。已申請**的德特研磨液配方所具有的獨特表面特性以及長久的懸浮分散性能仍舊是我們*新一代研磨液的主要優勢,但其化學成分可進行定制,以優化性能。*新一代合銳研磨液配方針對半導體材料 (如藍寶石、SiC、硅) 經過優化,它通過改進生產率和提高產量來降低總體制造成本,進而提供卓越的價值主張。已申請**的丹陽中研磨液的獨特特性結合創新水油基研磨液配方,可為廣大客戶提供滿足動態電子市場的大量產品組合。

      • 氧化鋁粉體顆粒在液相中的分散過程分布解析

        氧化鋁粉體顆粒在液相中的分散過程分布解析

        氧化鋁粉體顆粒在液相中的分散過程分布解析分散的實質就是使顆粒在一定環境下分離散開的過程。1.氧化鋁粉體顆粒在超細粉體的制備過程中,“粉碎與反粉碎”過程實際就是粉碎過程中新生粒子的分散和團聚問題,它對*終產品的細度起到至關重要的作用;2.在粉體制備行業,粉體分散性的好壞直接影響著分級效果和分級產品的細度及均勻性;另外,分散性對粉體的輸送、混合、均化和包裝的作用也不容忽視;3.在化工領域,如涂料、染料、油墨、化妝品等,分散及分散穩定性直接影響著產品的質量和性能;4.在材料科學領域,某種元素(物質)在材料機體中的分散程度決定了材料的性能和質量。研究表明,材料的損壞斷裂和腐蝕等主要是發生在材料的不均勻處及缺陷處。組成材料的不同組分的分散程度越高,材料的性能越好??傊?,在許多領域,分散已成為提高產品質量和性能以及提高工藝效率不可或缺的技術手段。 一、氧化鋁粉體顆粒在液相中分散過程氧化鋁超細粉體的分散介質通常為氣體和液體。而本文只對超細粉體在液體中的分散進行論述。顆粒分散過程分為四個階段:1、摻合,2、浸潤,3、顆粒群(團粒和團塊)的解體,4、已分散顆粒的絮凝。事實上粉體在液體中的分散過程本質上受兩種基本作用的支配:1. 液體對粉體顆粒的影響,即粉體顆粒與液體的作用——浸濕;2. 液體中粉體顆粒之間的相互作用。3. 粉體顆粒在液體中分散機理也就是浸濕和在液體中粉體顆粒之間的相互作用。下面來討論粉體顆粒在液體中的分散過程。1、浸濕氧化鋁粉體顆粒被液體浸濕的過程實際上就是液體和氣體之間爭奪粉體表面的過程。這關鍵取決于粉體表面與液體的極性差異。粉體顆粒被液體浸濕的過程主要是顆粒表面的潤濕性。浸濕性能通常用潤濕接觸角θ來度量。潤濕接觸角θ的表達式如下所示:具有完全潤濕性的顆粒,它們沒有接觸角,很易被液體浸濕。不完全潤濕粉體(0<90。),它們能否被液體浸濕取決于顆粒的密度及粒度,密度及粒度足夠大,顆粒將被浸濕到液體中。流體動力學條件對粉體的浸濕也有重要的作用,提高液體湍流強度可降低粉體的浸濕粒度。從潤濕熱的角度來分析浸濕的過程,當清潔的固體表面被液體潤濕時,通常會放出熱量,這種熱稱為潤濕熱。潤濕過程其實就是固/氣界面的消失和固/液界面的形成,因此潤濕熱可以下述公式表示:潤濕熱描述了液體對固體的潤濕程度,如果潤濕熱越大,說明固體在液體中潤濕程度越好,反之則越差。2、固體在液體中粉體顆粒在液體中的團聚狀態氧化鋁粉體顆粒被浸濕后,在液體中所發生的主要是粉體顆粒的分散和聚團的動態可逆過程,即分散?聚團的循環運動。而在分散體系中可逆過程的反應方向主要取決于:粉體顆粒間的相互作用以及顆粒所處的流體動力學狀態和物理場。粉體顆粒間的相互作用力主要包括:分子作用力、雙電層靜電力、結構力以及因吸附高分子而產生的空間效應力3、顆粒分散體系的分類分散系是指一種物質在另一種物質里被分散成微小粒子的體系。分散體系包括分散相和分散介質。被分散的物質稱為分散相,而另一種物質叫分散介質。根據不同的依據,分散體系的分類也不盡相同。分散體系按聚集狀態分類表:二、顆粒在液相中的常見分散技術通過超細顆粒在液相中分散過程的分析得出增強超細顆粒的分散手段,即選擇合適的溶劑或溶液提高粉體的潤濕熱,使潤濕自發進行;設計高效的分散機械使得分散有效體積和能量利用率得以提高;選擇合適的分散劑,使破碎后原生粒子十分穩定,阻止再團聚。顆粒分散按分散作用目的可分為預先分散和裂解團聚分散。從分散方式來分可分為物理分散和學分散。物理分散有機械分散、超聲分散、電磁分散和撞擊流法等。而化學分散則是利用分散劑不同的分散機理來達到對顆粒的分散。1物理分散A、機械分散主要利用強烈攪拌所產生的沖擊、剪切以及拉伸等機械力來阻止聚團或碎解聚團,從而達到分散的目的。顆粒被部分浸濕后,用機械的力量使剩余的聚團碎解。浸濕過程中的攪拌能增加聚團的碎解程度,從而加快了整個分散過程。B、超聲分散超聲波(20KHz–5×108Hz)具有波長短,近似直線傳播,能量容易集中,從而產生強烈振動,并可導致液相中的空化作用。利用超聲波進行分散的方法稱為超聲波分散。C、電磁分散利用鐵磁性攪拌棒在交變電壓產生的磁場中的運動來實現對顆粒的分散。這種方法對超細粉體分散的效果不明顯。D、撞擊流法利用射流撞擊器在撞擊碰撞的過程中產生的高壓、高速湍流以及超聲波作用來對顆粒進行分散的過程。撞擊流技術適合粉體亞微米級的分散。以上介紹了物理分散的幾種類型,但物理分散存在一個共同的問題是,一旦離開物理方法產生的湍流場,外部環境復原,粉體顆??赡苤匦戮蹐F。但作為*常用的分散手段,通過設計合適的分散機械提高體積和能量利用率是非常有研究價值的。2化學分散化學分散是工業生產中廣泛應用的一種分散方法。從顆粒分散機理出發通過改變粉體表面的性能(通常加分散劑),從而改變粉體顆粒和液體之間以及粉體顆粒自身之間的相互作用,達到粉體顆粒分散的目的。超微粒子的表面改性及粒子復合,在超細粉體制備技術中通常稱為粒子設計。A、分散劑分散劑是指能使物質分散于水等介質中而成膠體溶液的物質,主要作用是降低微粒間的結合力而防止絮凝或附聚。分散劑主要包括三大類:無機電解質(LPL、SS、NaOH等)、有機高聚物(聚丙烯酰胺系列、聚氧化乙烯系列、單寧、木質素等天然高分子等)、表面活性劑。不同種類的分散劑分散機理是各不相同。B、分散劑的選擇根據以上對各種分散劑機理的分析,結合DLVO理論、空間位阻理論和空缺穩定理論,選擇分散劑應把握以下兩個原則:1)能增加位壘Umax的高度,即提高粒子的表面電荷量,從而提高粒子的靜電排斥作用,以達到粒子分散穩定性的目的。2)粒子吸附分散劑后,吸附層在粒子周圍起到一個屏障作用,防止顆粒相互接近,即利用吸附層的空間位阻作用來達到分散體系穩定的目的。研究表明化學分散對超細粉體的分散起到至關重要的作用,物理分散和化學分散有機地結合可以獲得*佳的分散效果。

      • 氧化鋁知識

        氧化鋁知識

        簡述拜耳法生產氧化鋁的原理。 用苛性堿溶液在一定溫度、一定壓力條件下溶出鋁土礦,氧化鋁被溶出制得鋁酸鈉溶液,鋁酸鈉溶液凈化后經過降溫、添加晶種、攪拌分解析出氫氧化鋁,析出的氫氧化鋁經分離、洗滌、焙燒后得到氧化鋁。分解后的母液(主要成分NaOH)經蒸發再重新溶出新的一批鋁土礦,進入下一循環。氧化硅等雜質成為赤泥,經洗滌后外排或用于燒結法配料。 拜耳法的實質也就是下述反應在不同條件下的交替進行: 拜耳法生產氧化鋁的主要工序有那些? 原礦漿制備、溶出、溶出礦漿稀釋、赤泥分離和洗滌、晶種分解、氫氧化鋁分級和洗滌、氫氧化鋁焙燒、母液蒸發及蘇打苛化等。 鋁酸鈉溶液的濃度 鋁酸鈉溶液的基本成分是Al2O3和Na2O,工業上鋁酸鈉溶液各成分的濃度一般是用每升鋁酸鈉溶液中所含溶質的克數來表示的(g/l)。如一升鋁酸鈉溶液中含120克Al2O3、100克Na2O,則氧化鋁和氧化鈉的濃度分別表示成Al2O3120g/l、Na2O 100g/l。 鋁酸鈉溶液的苛性比值 鋁酸鈉溶液中的Na2O包括與氧化鋁反應生成鋁酸鈉的Na2O和以游離的NaOH形態存在的Na2O,它們都稱為苛性堿(以Na2Ok表示)。鋁酸鈉溶液中所含苛性堿與氧化鋁的摩爾比叫做鋁酸鈉溶液的苛性比值。以符號αk表示即: 式中 〔Nk〕——鋁酸鈉溶液中Na2Ok的摩爾數; 〔A〕——鋁酸鈉溶液中Al2O3的摩爾數。 拜耳法循環效率 循環母液每經過一次作業循環,便可以從鋁土礦中提取出一批氧化鋁。通常將1升(或1立方米)循環母液在一次作業周期中所生產的氧化鋁的克數(或kg數)稱為拜耳法的循環效率,以符號E表示。 原礦漿的磨制 原礦漿的磨制是將碎鋁礦按配比要求配入石灰和循環母液磨制成合格的原礦漿的過程。 原礦漿的技術指標要求:一般主要考核細度、固含、配鈣(氧化鈣添加量) 細度:+300μm≤1% (即60#篩上殘留≤1%) +63μm≤25

      • 丹陽中研(DY)研磨液

        丹陽中研(DY)研磨液

        丹陽中研(DY)研磨液由已申請**、**特色的懸浮分散劑、粒度分布較窄的研磨料組成。丹陽中研研磨液****的懸浮分散劑可提供研磨料**的懸浮分散性,材料去除率,還能帶來出色的表面質量這一額外收益。丹陽研磨液是半導體材料 (藍寶石、SiC、硅)、金相材料和精加工的理想選擇。 中研金剛石研磨液使用的金剛石表面擁有獨具特色的微晶面結構,可提供小切削點,大幅降低工件的表面粗糙度。 *新一代中研研磨液配方專門設計為兼顧高材料去除率和可接受表面質量的應用提供高經濟性解決方案。已申請**的德特研磨液配方所具有的獨特表面特性以及長久的懸浮分散性能仍舊是我們*新一代研磨液的主要優勢,但其化學成分可進行定制,以優化性能。*新一代合銳研磨液配方針對半導體材料 (如藍寶石、SiC、硅) 經過優化,它通過改進生產率和提高產量來降低總體制造成本,進而提供卓越的價值主張。已申請**的丹陽中研磨液的獨特特性結合創新水油基研磨液配方,可為廣大客戶提供滿足動態電子市場的大量產品組合。 ...

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